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玻璃的真空蒸发镀膜原理

2023-07-28

　　真空蒸发镀膜的物理过程
　　将膜材置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，膜材蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，且当蒸气分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后，很少收到其他分子或原子的碰撞与阻碍，可直接到达被镀的基片表面上，由于基片温度较低，膜材蒸气粒子凝结其上而成膜。为了提高蒸发分子与基片的附着力，对基片进行适当的加热或离子清洗使其活化是必要的。
　　真空蒸发镀膜从物料蒸发输运到沉积成膜，经历的物理过程为：
　　（1）采用各种能源方式转换成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量（01～0.3eV）的气态粒子（原子、分子或原子团）；
　　（2）离开膜材表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基片表面；
　　（3）到达基片表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜；
　　（4）组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。
　　为使蒸发镀膜顺利进行，应具备两个条件：蒸发过程中的真空条件和镀膜过程中的蒸发条件。

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